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  • 氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植
    氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植

    氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植是一種輔助生殖技術(shù),它涉及使用顯微鏡和精細(xì)的工具在體外進(jìn)行胚胎的植入。這種技術(shù)通常用于體外受精(IVF)過(guò)程中,以提高受孕率和幫助解決不孕問(wèn)題。在進(jìn)行胚胎移植時(shí),醫(yī)生會(huì)將經(jīng)過(guò)挑選的健康胚胎通過(guò)導(dǎo)管植入女性的子宮內(nèi),以期望胚胎能夠著床并繼續(xù)發(fā)育。整個(gè)過(guò)程需要高度的技術(shù)和經(jīng)驗(yàn),以確保操作的精確性和安全性。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
    工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實(shí)驗(yàn)室設(shè)備

    工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實(shí)驗(yàn)室設(shè)備簡(jiǎn)要描述:SENTECH二維材料刻蝕沉積能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層,在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體,而不受紫外線輻射或離子轟擊。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • PE鉑金埃爾默ICPMS
    PE鉑金埃爾默ICPMS

    PE鉑金埃爾默ICPMS是美國(guó)鉑金埃爾默公司(PerkinElmer, Inc.)推出的一款高性能的電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)產(chǎn)品。該產(chǎn)品系列以其靈敏度、精確度和可靠性而聞名,廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)、食品安全、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)和地質(zhì)研究等領(lǐng)域。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射
    氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射

    氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射簡(jiǎn)要描述:化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標(biāo)準(zhǔn)的化學(xué)氣相沉積工藝。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)
    便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)

    簡(jiǎn)要描述:便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)是一種專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于在超高真空環(huán)境中傳送和處理樣品的設(shè)備。這種設(shè)備通常包括一個(gè)或多個(gè)關(guān)鍵組成部分,如連接真空計(jì)的接口、反射式光電陰極入射光導(dǎo)入口、樣品加熱裝置、進(jìn)樣裝置、樣品傳遞機(jī)構(gòu)等。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 4/6英寸輻射式樣品臺(tái)系統(tǒng)
    4/6英寸輻射式樣品臺(tái)系統(tǒng)

    簡(jiǎn)要描述:4/6英寸輻射式樣品臺(tái)系統(tǒng)“可能指的是一種用于實(shí)驗(yàn)或研究的設(shè)備或組件,特別是在材料科學(xué)、物理學(xué)、工程學(xué)或其他需要精確控制和分析樣品的環(huán)境中的設(shè)備。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 插拔式加熱器沉積系統(tǒng)
    插拔式加熱器沉積系統(tǒng)

    簡(jiǎn)要描述:插拔式加熱器沉積系統(tǒng)是一種方便、實(shí)用的加熱設(shè)備,廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)和商業(yè)領(lǐng)域。這種加熱器通常具有緊湊的設(shè)計(jì),可以方便地插入到電源插座中,提供快速、高效的加熱功能。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 脈沖激光沉積樣品臺(tái)
    脈沖激光沉積樣品臺(tái)

    簡(jiǎn)要描述:脈沖激光沉積樣品臺(tái)是一種物理氣相沉積技術(shù),用于在襯底上生長(zhǎng)高質(zhì)量的薄膜。脈沖激光沉積系統(tǒng)中的樣品臺(tái)是一個(gè)關(guān)鍵組件,用于支撐和加熱待沉積的樣品。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 脈沖激光沉積靶臺(tái)
    脈沖激光沉積靶臺(tái)

    簡(jiǎn)要描述:脈沖激光沉積靶臺(tái)的設(shè)計(jì)和應(yīng)用對(duì)于脈沖激光沉積系統(tǒng)的性能和實(shí)驗(yàn)結(jié)果具有重要影響。通過(guò)綜合考慮穩(wěn)定性、熱隔離、靈活性、靶材均勻性、冷卻機(jī)制以及靶材旋轉(zhuǎn)等因素,可以設(shè)計(jì)出更加、高效和穩(wěn)定的靶臺(tái),以滿足不同領(lǐng)域和應(yīng)用的需求。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路
    脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路

    簡(jiǎn)要描述:脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路是一個(gè)高度復(fù)雜和精密的系統(tǒng),需要各個(gè)部分的緊密配合和精確控制,才能制備出高質(zhì)量的薄膜。同時(shí),隨著科技的發(fā)展,脈沖激光沉積技術(shù)也在不斷地進(jìn)步和優(yōu)化,為薄膜科學(xué)和工業(yè)應(yīng)用提供了強(qiáng)大的支持。

    更新時(shí)間:2024-10-10
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